第9回化粧品産業技術展 CITE Japan 2019　出展のお知らせ

当社は、5月15日（水）～17日（金）の3日間、パシフィコ横浜にて開催される第9回化粧品産業技術展「CITE JAPAN 2019」に出展いたします。同展は、日本化粧品原料協会連合会が主催し、化粧品産業の発展に欠かせない分野の出展社が一堂に会し、最新技術やサービスなどの展示と技術発表を行い、ユーザー企業である化粧品メーカーなどが情報をいち早く入手できる有意義な場となっています。
【展示会概要】
　　日時　 ：5月15日（水）～ 5月17日（金）10時～17時（最終日は16時まで）
　　場所　 ：パシフィコ横浜（神奈川県横浜市西区みなとみらい１丁目１−１）
　　展示ブース ：ホソカワミクロン（株）　B17-15

【出展内容】
ホソカワミクロンは、独自PLGA技術によるあらゆる肌悩み解決へのアプローチとして、「シワ改善、毛穴ケア、ニキビケア」と「育毛技術」を中心にご紹介いたします。会場にお越しの際はぜひ当社ブースにお立ち寄りください。
また、同会期中、下記日程にて「出展社技術発表会」を行います。
みなさまのご来場を心よりお待ちしております。
1) 5月15日　14:55～15:25【C会場】
　『化粧品ポテンシャルを底上げする最新DDS技術　～17型コラーゲンにフォーカスした角質層へのアプローチ～』
2) 5月17日　12:05～12:35【F会場】
　『化粧品ポテンシャルを底上げする最新DDS技術　～17型コラーゲンにフォーカスした毛穴へのアプローチ』
3) 5月15日　13:30～14:00【 E-206 会場】※海外来場者向け
　『New DDS technology enhancing active cosmetic ingredient effect ～New skin and pore care applications focusing on type XVII collagen～』

　　　　　　　　　　　　　以　上

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