｢国際粉体工業展東京2008」のご案内
2008年8月26日（火）
この度ホソカワミクロン株式会社は、「国際粉体工業展 東京 2008」に出展致します。
ナノパーティクルテクノロジーを含む粉体技術のリーディングカンパニーである当社の新製品の数々を機器及びパネルで展示し、各業界に幅広くご紹介致します。
どうぞ、ご期待ください。
多数の方々の御来場を賜りますようお願い申し上げます。
- 会期
- 2008年 10月28日(火)～31日(金) 4日間 10：00～17：00
- 会場
- 幕張メッセ 1-3ホール
- 当社ブース
- 小間番号 A－70
製品技術説明会
展示会場内別会場（Bルーム）で、下記の説明会を行います。（参加無料）
ふるって御参加ください。
10/28（火） 15:30-16:00 『省エネルギーのための乾式微粉砕機の紹介』
※ 詳細が決定次第、随時更新いたします。