｢国際粉体工業展2006」のご案内
2006年10月2日（月）
この度ホソカワミクロン株式会社は、「国際粉体工業展2006」に出展致します。
ナノパーティクルテクノロジーを含む粉体技術のリーディングカンパニーとして、当社技術を活かし市場のニーズに合致したアプリケーション・製品及びリニューアルされた主力製品（粉砕性能を向上した新機種ACMパルベライザACM-H型、異物分離可能なスーパーミクロンミルなど）の機器及びパネルでの展示を実施し、各業界に幅広くご紹介致します。
併せてナノテクノロジーを応用した化粧品・頭皮料等のご紹介も行います。
多数の方々の御来場を賜りますようお願い申し上げます。
- 会期
- 2006年 11月7日(火)～10日(金) 4日間 10：00～17：00
- 会場
- 日本コンベンションセンター［幕張メッセ］ 4-6ホール
- 当社ブース
- 小間番号 A－105 会場案内図
紹介技術および出展予定機種
| ◇高性能微粉砕機 | 新型ACMパルベライザ H型 新製品 |
| ◇高速磨砕粉砕機 | スーパーミクロンミル MEC型 新製品 |
| ◇湿式超微粉砕機 | ハイドロミル AHM型 |
| ◇粒子複合化技術 | ナノキュラ NC-LAB-P型 新製品 |
| ◇粒子複合化技術 | ノビルタ NOB型 新製品 |
| ◇粒子複合化技術 | メカノフュージョン AMS型 |
| ◇高圧縮ロール式造粒機 | コンパクティングマシン |
| ◇粉体特性測定装置 | パウダテスタ PT-S型 |
| ◇オンライン粒度分布測定装置 | INSITEC |
| ◇（共同出展） ホソカワ粉体技術研究所 |
1.受託分析測定･受託加工のご紹介 |
| ◇（共同出展） ユノインターナショナル |
1. ナノテク化粧品 ナノクリスフェア 2. ナノテク頭皮料 ナノインパクト |
| ◇粉体関連製品･技術の紹介 （パネル） |
1. 電子･電池材料、ポリマーなど主要アプリケーション 2. ろ過式集塵機、クリーンルーム、メンテナンス紹介 3. トナー用上下カット分級、無菌製剤製造プロセス |
製品技術説明会
展示会場内別会場（裏面会場配置図参照）で、下記の説明会を行います。（参加無料）
当日の開始15分前、会場前にて受付いたします。ふるって御参加ください。
11/8（水） 15:30-16:00 『新世代型高性能微粉砕機の紹介 新型ACMパルベライザACM-H』
- 「国際粉体工業展2006」の詳細はこちら POWTEX TOKYO 2006 国際粉体工業展2006
- 招待券希望はこちら https://www.expo-form.com/form/form_208.html